-
1 длина волны экспонирующего излучения
1) Electronics: exposure wavelength2) Microelectronics: printing wavelengthУниверсальный русско-английский словарь > длина волны экспонирующего излучения
-
2 длина волны экспонирующего излучения
nmicroel. BelichtungswellenlängeУниверсальный русско-немецкий словарь > длина волны экспонирующего излучения
-
3 длина волны экспонирующего излучения
Русско-английский словарь по микроэлектронике > длина волны экспонирующего излучения
-
4 длина волны экспонирующего излучения в литографии
Русско-английский словарь по микроэлектронике > длина волны экспонирующего излучения в литографии
-
5 длина волны
-
6 длина волны
граничная длина волны; граница спектра — boundary wavelength
Авиация и космонавтика. Русско-английский словарь > длина волны
-
7 длина оптической волны
граничная длина волны; граница спектра — boundary wavelength
Русско-английский словарь по информационным технологиям > длина оптической волны
-
8 основная волна
граничная длина волны; граница спектра — boundary wavelength
Русско-английский новый политехнический словарь > основная волна
-
9 интервал длин волн
граничная длина волны; граница спектра — boundary wavelength
Авиация и космонавтика. Русско-английский словарь > интервал длин волн
-
10 рентгенолитография
РентгенолитографияРазновидность оптической бесконтактной печати, в которой длина волны экспонирующего облучения лежит в диапазоне 0.4 - 5 нм. Несмотря на то, что при рентгеновской литографии используется бесконтактная экспонирующая система, проявление дифракционных эффектов уменьшено за счет малой длины волны рентгеновского излучения.Основная причина разработки метода рентгеновской литографии заключалась в возможности получения высокого разрешения и, в то же время, высокой производительности оборудования. Кроме того, за счет малой величины энергии мягкого рентгеновского излучения уменьшается проявление эффектов рассеяния в резистах и подложке.Russian-English dictionary of Nanotechnology > рентгенолитография
-
11 X-ray lithography
РентгенолитографияРазновидность оптической бесконтактной печати, в которой длина волны экспонирующего облучения лежит в диапазоне 0.4 - 5 нм. Несмотря на то, что при рентгеновской литографии используется бесконтактная экспонирующая система, проявление дифракционных эффектов уменьшено за счет малой длины волны рентгеновского излучения.Основная причина разработки метода рентгеновской литографии заключалась в возможности получения высокого разрешения и, в то же время, высокой производительности оборудования. Кроме того, за счет малой величины энергии мягкого рентгеновского излучения уменьшается проявление эффектов рассеяния в резистах и подложке.Russian-English dictionary of Nanotechnology > X-ray lithography
См. также в других словарях:
длина волны экспонирующего излучения — eksponavimo spinduliuotės bangos ilgis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. exposure wavelength vok. Belichtungswellenlänge, f rus. длина волны экспонирующего излучения, f pranc. longueur d onde de radiation exposante, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Belichtungswellenlänge — eksponavimo spinduliuotės bangos ilgis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. exposure wavelength vok. Belichtungswellenlänge, f rus. длина волны экспонирующего излучения, f pranc. longueur d onde de radiation exposante, f … Radioelektronikos terminų žodynas
eksponavimo spinduliuotės bangos ilgis — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. exposure wavelength vok. Belichtungswellenlänge, f rus. длина волны экспонирующего излучения, f pranc. longueur d onde de radiation exposante, f … Radioelektronikos terminų žodynas
exposure wavelength — eksponavimo spinduliuotės bangos ilgis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. exposure wavelength vok. Belichtungswellenlänge, f rus. длина волны экспонирующего излучения, f pranc. longueur d onde de radiation exposante, f … Radioelektronikos terminų žodynas
longueur d'onde de radiation exposante — eksponavimo spinduliuotės bangos ilgis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. exposure wavelength vok. Belichtungswellenlänge, f rus. длина волны экспонирующего излучения, f pranc. longueur d onde de radiation exposante, f … Radioelektronikos terminų žodynas
рентгенолитография — X ray Lithography Рентгенолитография Разновидность оптической бесконтактной печати, в которой длина волны экспонирующего облучения лежит в диапазоне 0.4 5 нм. Несмотря на то, что при рентгеновской литографии используется бесконтактная… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
X-ray lithography — X ray Lithography Рентгенолитография Разновидность оптической бесконтактной печати, в которой длина волны экспонирующего облучения лежит в диапазоне 0.4 5 нм. Несмотря на то, что при рентгеновской литографии используется бесконтактная… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
МИКРОЛИТОГРАФИЯ — формирование микрорисунков на поверхности твёрдого тела. M. лежит в основе технологии микроэлектроники. Обычно M. включает: нанесение на поверхность твёрдого тела (подложку) тонкого слоя фоторезиста (материала, чувствительного к воздействию… … Физическая энциклопедия
Сенситометрия — (от позднелатинского sensitivus чувствительный и ...метрия (См. …метрия)) учение об измерении фотографических свойств светочувствительных материалов. Возникла в 40 х гг. 19 в. (вслед за открытием фотографии) и долгое время ограничивалась… … Большая советская энциклопедия
